AI Rack架构高速互连的挑战:损耗设计与信号完整性的设计框架

 

在AI驱动的时代,系统设计已经从单一PCB的视角,逐步转向以整个rack为单位来考量。 对于信号完整性而言,焦点以不再局限于单一PCB上的损耗,而是扩展到芯片与芯片之间的端到端互连损耗(end-to-end interconnect loss)。 这种转变反映了现代高性能系统设计的新需求与挑战,也让互连损耗成为设计者无法忽视的核心课题。

比如最近大家一直在关注的GB200,Compute Tray即透过Cable Cartridge与Switch Tray高速连通,这种End-End loss(Blackwell to NVswitch)大概落在40~45dB,也是目前SerDes做Equalization的上限。

 

晶片到芯片的互连损耗可以细分为以下三个主要部分,每一部分都对整体系统性能产生重要影响:

1. 封装载板与PCB损耗

载板与PCB损耗这部分是整体讯号互连损耗的重要组成,主要包括以下几个方面:

金属损耗

金属损耗主要分成金属(通常是铜)本身的电阻效应以及表面粗糙度

铜箔电阻损耗

PCB上绝大多数的金属是铜,本身就带有些许电阻,低频时电流较为平均分布在铜箔内部,损耗较小; 高频时会有集肤效应,电流会分布在铜箔表面,电流截面积下降,导致高频电阻升高的情况下高频时损耗会上升。

 

表面粗糙度

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