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光刻

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光刻是平面型晶体管和集成电路生产中的一个主要工艺。是对半导体晶片表面的掩蔽物（如二氧化硅）进行开孔，以便进行杂质的定域扩散的一种加工技术。

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光刻帖子

光刻掩膜设计与加工制造服务，请问可以加工二元光学器件吗？

标签：光刻光学器件 373 1

国科大《集成电路先进光刻技术与版图设计优化》课程分享之二：浸没式光刻工艺缺陷种类、特征及自识别方法

标签：光刻半导体工艺 7655 1

光刻工艺步骤

标签：光刻 4163 2

光刻部分的主要机台包括两部分：轨道机（Tracker），用于涂胶显影；扫描曝光机（Scanning )

标签：光刻 1953 0

请问为什么在我光刻镀膜完之后用***剥离金属老掉呢？

标签：光刻 5750 1

光刻资料下载

EUV光刻技术如何为功率半导体提供动力立即下载

类别：电子资料 2023-02-15 标签：光刻功率半导体 EUV 653 0

采用DLP 3D结构光软件开发套件的3D打印机立即下载

类别：电子资料 2022-09-07 标签：光刻 dlp 3D打印机 880 0

GaAs的湿法蚀刻和光刻立即下载

类别：模拟数字论文 2022-06-29 标签：光刻蚀刻 GaAs 632 0

中芯国际RD及半导体技术发展趋势立即下载

类别：电子资料 2021-05-07 标签：半导体中芯国际光刻 1.6k 0

五个方面剖析SIP封装工艺，看懂SIP封装真正用途资料下载立即下载

类别：行业软件 2021-04-29 标签：封装工艺 smt 2.9k 0

一文详谈波峰焊接工艺资料下载立即下载

类别：行业软件 2021-04-29 标签：封装工艺 smt 1.2k 0

MEMS封装的特点资料下载立即下载

类别：行业软件 2021-04-29 标签：封装工艺 smt 1.3k 0

多图，MLCC制作工艺流程资料下载立即下载

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机械制造工艺--轴类零件加工资料下载立即下载

类别：行业软件 2021-04-29 标签：封装工艺 smt 990 0

利用MEMS惯性感测技术实现变革资料下载立即下载

类别：行业软件 2021-04-28 标签：封装工艺 smt 753 0

光刻资讯

1um 以下的光刻深度，凹槽深度和宽度测量

一、引言在半导体制造、微机电系统（MEMS）等高新技术领域，1um 以下光刻深度、凹槽深度和宽度的精确测量至关重要。这类微小尺寸的测量精度直接影响产品...

2025-08-11 标签：光刻干涉仪白光干涉 110 0

中科院微电子所突破 EUV 光刻技术瓶颈

极紫外光刻（EUVL）技术作为实现先进工艺制程的关键路径，在半导体制造领域占据着举足轻重的地位。当前，LPP-EUV 光源是极紫外光刻机所采用的主流光源...

2025-07-22 标签：光刻 EUV 320 0

改善光刻图形线宽变化的方法及白光干涉仪在光刻图形的测量

引言在半导体制造与微纳加工领域，光刻图形线宽变化直接影响器件性能与集成度。精确控制光刻图形线宽是保障工艺精度的关键。本文将介绍改善光刻图形线宽变化的方...

2025-06-30 标签：光刻干涉仪 224 0

用于 ARRAY 制程工艺的低铜腐蚀光刻胶剥离液及白光干涉仪在光刻图形的测量

引言在显示面板制造的 ARRAY 制程工艺中，光刻胶剥离是关键环节。铜布线在制程中广泛应用，但传统光刻胶剥离液易对铜产生腐蚀，影响器件性能。同时，光刻...

2025-06-18 标签：光刻 Array 315 0

低含量 NMF 光刻胶剥离液和制备方法及白光干涉仪在光刻图形的测量

引言在半导体制造过程中，光刻胶剥离液是不可或缺的材料。N - 甲基 - 2 - 吡咯烷酮（NMF）虽在光刻胶剥离方面表现出色，但因其高含量使用带来的成...

2025-06-17 标签：光刻 NMF 干涉仪 316 0

为什么光刻要用黄光?

进入过无尘间光刻区的朋友，应该都知道光刻区里用的都是黄灯，这个看似很简单的问题的背后却蕴含了很多鲜为人知的道理，那为什么实验室光刻要用黄光呢？光刻是微...

2025-06-16 标签：光刻 394 0

TFT-LCD 显示屏光刻胶剥离方法及白光干涉仪在光刻图形的测量

引言在 TFT-LCD 显示屏制造工艺中，光刻胶剥离是关键工序之一，其效果直接影响显示屏的质量与性能。随着 TFT-LCD 技术向高分辨率、窄边框方向...

2025-06-13 标签：lcd 显示屏光刻 318 0

用于叠层晶圆的光刻胶剥离液及白光干涉仪在光刻图形的测量

引言随着半导体技术向高密度、高性能方向发展，叠层晶圆技术成为关键。在叠层晶圆制造过程中，光刻胶剥离液的性能对工艺质量和器件可靠性影响重大。同时，精确测...

2025-06-12 标签：光刻光刻胶 229 0

光刻工艺中的显影技术

一、光刻工艺概述光刻工艺是半导体制造的核心技术，通过光刻胶在特殊波长光线或者电子束下发生化学变化，再经过曝光、显影、刻蚀等工艺过程，将设计在掩膜上的图...

2025-06-09 标签：光刻显影光刻胶 771 0

水平式光刻胶剥离工艺及白光干涉仪在光刻图形的测量

引言在半导体制造和微纳加工领域，光刻胶剥离是光刻工艺的重要环节。水平式光刻胶剥离工艺凭借其独特优势在工业生产中占据一席之地，而准确测量光刻图形对保障工...

2025-06-04 标签：光刻白光干涉仪 166 0

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　　基准电压是指传感器置于0℃的温场（冰水混合物），在通以工作电流（100μA）的条件下，传感器上的电压值。实际上就是0点电压。其表示符号为V（0），该值出厂时标定，由于传感器的温度系数S相同，则只要知道基准电压值V（0），即可求知任何温度点上的传感器电压值，而不必对传感器进行分度。
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